お知らせ
2019年度
光とレーザーの最新技術・製品・情報が集結する「OPIE'19」に出展
「当社（社長：大田 勝幸）は、2019年4月24日（水）～26日（金）の3日間、パシフィコ横浜で開催される一般社団法人 OPI協議会統括主催の「OPIE'19」（https://www.opie.jp/）にブースを出展いたします。
当社の微細加工技術であるナノインプリントは、基材の表面にナノメートルサイズの微細構造を形成する技術です。微細構造の形状に応じて、様々な光学的機能を発現させることができます。当社ではガラス基材上への無機材料によるインプリント（ガラスインプリント）により、高耐熱位相差板の他、高耐熱拡散板、高耐熱ビーム整形素子など、様々な無機光学素子の開発、製造を行っています。今回、製品紹介のため、出展します。
＜出展概要＞
| 1.日時 | 2019年4月24日（水）～26日（金）10：00-17：00 |
| 2.会場 | パシフィコ 横浜展示ホール アネックスホール レーザーEXPO No.B-25 |
| 3.出展製品 |
 高耐熱位相差板 ナノサイズの周期凹凸構造により位相差を発現
 高耐熱拡散板 基材表面に転写した無機微細構造により光の拡散性を制御
 高耐熱ビーム整形素子 基材表面に転写した無機微細構造により出射パターンを制御
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