お知らせ

2021年度

光とレーザーの最新技術・製品・情報が集結する「OPIE'21」に出展

OPIE'21

 

当社(社長:大田 勝幸)は、2021年6月30日(水)~7月2日(金)の3日間、パシフィコ横浜(横浜市西区)で開催される一般社団法人 OPI協議会統括主催の「OPIE'21」にブースを出展いたします。
今回、独自の無機材料とナノインプリント技術で作製した光学素子である高耐熱波長板「Nanoable®Waveplate」、高耐熱拡散板「Nanoable®Diffuser」、高耐熱回折光学素子「Nanoable® Diffractive Optical Element」を出展します。全て無機材料で構成しており、通常のナノインプリント製品に比べ高耐熱・高耐光を有するのが特徴です。ナノインプリント技術で製造することにより量産性に優れ、コストダウン効果が期待できます。その他、インプリント技術を使った透明導電フィルムもご紹介しております。

展示会場への来場を希望される方は、展示会ホームページからご登録を下さい。

<出展概要>

1.日時 2021年6月30日(水)~7月2日(金)10:00-17:00
2.会場 パシフィコ横浜展示ホール アネックスホール ブース番号 レーザーEXPO No.B
3.出展製品

高耐熱波長板「Nanoable®Waveplate」

ナノサイズの周期凹凸構造により位相差を発現

  • レーザー光源に使用可能な200℃以上の高耐熱、高耐光性を実現
  • 位相差領域のパターニングや1チップ内で複数光学軸角度の設定が可能
  • 光入射角依存性が小さい

高耐熱拡散板「Nanoable®Diffuser」(ガウシアンパターン)

基材表面に転写した無機微細構造により光の拡散性を制御

  • レーザー光源に使用可能な高耐熱性と高耐光性を実現
  • 拡散角のコントロールが可能
  • ホットスポットがなく、理想的なガウシアン拡散特性

高耐熱拡散板「Nanoable®Diffuser」(トップハットパターン)

レーザー光をトップハット出力に変換

  • ご要望の拡散角度に応じて素子作製が可能
  • レーザー光源に使用可能な高耐熱性と高耐光性を実現

高耐熱回折光学素子「Nanoable® Diffractive Optical Element」

基材表面に転写した無機微細構造により出射パターンを制御

  • レーザー光源に使用可能な高耐熱性と高耐光性を実現
  • ご要望の出射パターンに応じて、微細構造設計、素子製作が可能
  • 矩形、円形だけでなく、ロゴや標識のような複雑な出射パターンも実現可能

インプリント技術を使った透明導電フィルム<開発中>

微細配線技術を使って世の中にない高性能な透明導電フィルムを実現

  • 視認可能な極細配線を提供(~1um可能)
  • 高アスペクトの極細配線を提供(~5)
  • 低い抵抗値を提供(目安:0.1~10Ω/□)
  • 良好なヒーター性能を提供
  • 可視光領域で高い透明性を提供(90%以上)
  • 良好な曲げ耐性を有するフィルムを提供

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