お知らせ
2021年度
光とレーザーの最新技術・製品・情報が集結する「OPIE'21」に出展
当社（社長：大田 勝幸）は、2021年６月30日（水）～7月２日（金）の3日間、パシフィコ横浜（横浜市西区）で開催される一般社団法人 OPI協議会統括主催の「OPIE'21」にブースを出展いたします。
今回、独自の無機材料とナノインプリント技術で作製した光学素子である高耐熱波長板「Nanoable®Waveplate」、高耐熱拡散板「Nanoable®Diffuser」、高耐熱回折光学素子「Nanoable® Diffractive Optical Element」を出展します。全て無機材料で構成しており、通常のナノインプリント製品に比べ高耐熱・高耐光を有するのが特徴です。ナノインプリント技術で製造することにより量産性に優れ、コストダウン効果が期待できます。その他、インプリント技術を使った透明導電フィルムもご紹介しております。
展示会場への来場を希望される方は、展示会ホームページからご登録を下さい。
＜出展概要＞
| 1.日時 | 2021年６月30日（水）～7月２日（金）10：00-17：00 |
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| 2.会場 | パシフィコ横浜展示ホール アネックスホール ブース番号 レーザーEXPO No.B |
| 3.出展製品 |
 高耐熱波長板「Nanoable®Waveplate」 ナノサイズの周期凹凸構造により位相差を発現
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 高耐熱拡散板「Nanoable®Diffuser」（ガウシアンパターン） 基材表面に転写した無機微細構造により光の拡散性を制御
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 高耐熱拡散板「Nanoable®Diffuser」（トップハットパターン） レーザー光をトップハット出力に変換
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 高耐熱回折光学素子「Nanoable® Diffractive Optical Element」 基材表面に転写した無機微細構造により出射パターンを制御
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 インプリント技術を使った透明導電フィルム<開発中> 微細配線技術を使って世の中にない高性能な透明導電フィルムを実現
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